TXFB-300Y一体式涡轮分子真空泵是厦门太星机电面向中大型高洁净真空需求打造的旗舰级涡轮分子真空泵机组，集成泵体、智能驱动与保护模块，采用高速涡轮与高精度动平衡技术，氮抽速达 300 L/s，极限真空可达 6×10⁷ Pa。设备兼顾大抽速、高洁净、低振动与免维护特性，可替代传统分体涡轮分子真空泵系统，广泛应用于工业镀膜、半导体、真空热处理及大型科研装置，是中大型高真空系统的核心优选设备。

核心特点

• 一体化集成设计：泵体、驱动控制器、保护电路高度集成，无需外接控制器，接线极简即插即用，大幅节省安装空间与调试时间。

• 大抽气高真空性能：氮抽速 300 L/s，极限真空≤3×10⁷ Pa，氮压缩比＞1×10⁸、氢压缩比＞1×10³，快速建立高洁净真空。

• 高转速稳定运行：最高转速 33000 rpm，涡轮转子经整体动平衡校验，振动值≤0.1μm，运行噪音≤68 dB，长期稳定可靠。

• 智能安全控制：内置 MCU 智能控制系统，具备过流、过压、过热、过载、短路、防反接等多重保护，支持一键启停、故障自诊断。

• 免维护长寿命：采用脂润滑陶瓷轴承，密封设计寿命长，正常工况寿命可达 40000 小时以上，无需频繁换油维护。

• 灵活安装适配：支持水平、垂直、倾斜任意角度安装，标准 CF100/ISO-K100 进气法兰、KF25 排气法兰，适配多种前级泵。

• 低功耗高效能：额定功率 200 W、峰值功率 300 W（10s），24 VDC 宽电压输入，启动时间＜4 min，适配连续或间歇工作。

• 清洁无油环境：分子流抽气原理，无油污染、无记忆效应，适配对真空洁净度要求严苛的工艺。

性能参数表

抽速曲线

安装尺寸图

应用领域

• 真空镀膜行业：大型 PVD/CVD 设备、连续式镀膜生产线、光学玻璃镀膜、装饰镀膜系统。

• 半导体与微电子：晶圆加工、离子注入、薄膜沉积、元器件真空封装、真空测试设备。

• 真空热处理：真空退火、真空淬火、真空烧结、真空钎焊炉配套设备。

• 科研与分析：大型真空实验平台、高能分析仪器、质谱设备、真空模拟装置。

• 通用工业：大型真空腔体、真空检漏系统、特种材料真空处理、真空焊接设备。

为何选择 TXFB-300Y一体式涡轮分子真空泵

TXFB-300Y一体式涡轮分子真空泵聚焦中大型腔体高洁净真空需求，核心优势在于大抽速与高可靠性的平衡。

• 高效节能：大抽速缩短抽气时间，效率较传统涡轮分子真空泵提升 20%，长期运行降低能耗。

• 洁净稳定：无油抽气达 10⁷ Pa 级真空，振动低，适配精密工艺与高端设备。

• 运维省心：陶瓷轴承免维护，故障少，大幅降低停机与维护成本。

• 适配性强：任意角度安装，标准法兰兼容多种前级泵，适配复杂现场。

• 智能安全：多重保护 + 远程监控，保障设备与工艺安全。

从工业镀膜生产线到大型科研装置，TXFB-300Y 提供真空解决方案，具备大抽速、高洁净、稳运行、低维护的特性，是中大型高真空系统的标杆设备。

常见问题解答

• 需要配前级泵吗？ 需要，建议配套 2 L/S 的旋片泵或干泵作为前级预抽，可快速启动并达到高真空。

• 可以 24 小时连续运行吗？ 可以，整机工业级设计，散热良好，额定工况下可长期稳定运行。

• 维护周期多久？ 正常清洁工况下免维护，建议每 12 个月检查一次轴承状态，油脂寿命长。

• 可以抽腐蚀性气体吗？ 不适用于强腐蚀、含卤素或聚合性气体；轻微腐蚀性气体需加装净化装置。

• 安装有方向要求吗？ 无方向限制，支持水平、垂直、倾斜任意角度安装。

产品总结

TXFB-300Y一体式涡轮分子真空泵以大抽速、一体化集成、高真空洁净、低振动免维护为核心竞争力，解决传统分体涡轮分子真空泵安装复杂、空间占用大、维护繁琐的痛点。凭借 300 L/S 抽速、10⁷ Pa 级极限真空与智能控制，适配工业镀膜、半导体、热处理、科研等中大型腔体高真空需求，是一款兼具高性能、高可靠性与高性价比的国产旗舰涡轮分子真空泵。