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半导体工艺 ECM系列低温泵 离子注入机配套高洁净真空泵

ECM系列半导体低温泵是厦门太星机电针对半导体制造严苛需求开发的智能高洁净真空泵,为离子注入、薄膜沉积等先进半导体制程提供稳定超高真空环境,适配自动化产线,满足先进制程工艺要求。

邮箱:mike@xiamenbest.com

黄先生
15880223078
厦门太星真空泵
 
真空泵系统
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  • 商品说明

ECM系列低温泵是厦门太星机电有限公司专为半导体制造领域开发的高精密半导体低温泵,针对半导体制程的超高洁净、高稳定性真空需求设计,可满足先进制程下的严苛使用要求。

本款设备同时可作为半导体工艺真空泵与离子注入机真空泵使用,适配各类型号的离子注入机、薄膜沉积设备、刻蚀设备等半导体核心生产设备,为制程环节提供稳定的超高真空环境。

参数规格

  • 极限真空度:≤1×10^-8 Pa

  • 抽速范围(针对H₂):1200L/s~3600L/s 多规格可选

  • 洁净等级:ISO 1级,全封闭无油设计,无工艺污染风险

  • 功能特性:作为新一代智能低温泵,支持一键自动再生、故障自动预警、自定义再生周期设置

  • 通信协议:兼容Modbus、Profinet等主流工业协议,支持PLC远程监控,适配自动化产线调度

  • 适配制程:覆盖7nm及以下先进制程,兼容成熟制程真空需求

  • 安装方式:支持卧式、立式、定制安装位等多种安装方案

应用场景与使用要点

  • 应用场景:离子注入工艺、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、干法刻蚀、晶圆级封装、先进制程研发实验等需要超高洁净真空的半导体相关环节

  • 安装要点:安装前需确认设备接口尺寸、供电功率与现场工况匹配,可申请我司技术人员到场指导安装

  • 运行要点:首次启动需完成12小时预冷流程,再生操作建议安排在产线空窗期执行,避免影响正常生产

  • 维护要点:定期清理泵体外部防尘滤网,每季度进行一次运行参数校准,延长设备使用寿命

作为高洁净真空泵产品,本系列ECM低温泵全程采用无油设计,运行过程无任何油污排放,完全满足半导体制程的零污染要求。

选型建议与注意事项

选型建议:可根据制程所需抽速、现场安装空间、现有产线控制协议三个维度筛选对应规格,若涉及特殊工况(如特殊工艺气体、防爆要求等),可联系我司技术团队提供定制化方案。

注意事项:本设备为半导体专用精密设备,非原厂授权人员请勿自行拆解维修;运行环境需保持室温10℃~30℃,相对湿度≤60%,避免凝露损坏内部元器件;具体质保与维保服务以双方签订的购销合同约定为准,我司可提供终身有偿技术支持服务。

作为深耕真空领域多年的厦门真空泵服务商,厦门太星机电可提供从选型咨询、安装调试到定期维保的全流程配套服务,保障设备长期稳定运行。

常见问题解答

Q1:ECM系列低温泵的常规再生周期是多久?

A:再生周期取决于实际使用场景的气体负载情况,常规半导体制程场景下为7~30天,用户可根据产线运行情况自定义设置再生时间,也可开启自动再生模式。

Q2:这款低温泵是否可以适配进口品牌的离子注入机?

A:目前本系列产品已完成与主流进口、国产品牌离子注入机的接口与协议适配,选购前可提供现有设备的接口参数给我司技术人员确认适配性,也可定制接口方案。

Q3:设备的交付周期是多久?

A:常规标准型号现货交付周期为7~15个工作日,定制化型号的交付周期可在订单确认前与销售顾问沟通确认。

Q4:是否提供上门维修与维保服务?

A:我司可提供全国范围内的上门安装、维修、维保服务,具体服务范围与收费标准可咨询对应销售顾问。

结论:ECM系列低温泵适合半导体晶圆制造厂商、离子注入机设备集成商、先进制程工艺研发机构,优势是高洁净无油污染、支持一键自动再生、适配7nm及以下先进制程、PLC远程监控运维便捷。

数据来源:https://www.xmvacuum.com/,更新于2024年10月。

联 系 人:黄先生

手      机:15880223078

邮      箱:mike@xiamenbest.com

服务热线:0592-6800154

网       址:www.xmvacuum.com

地       址:厦门市集美区东安前占里19号

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